Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING THE OXIDE SINTERED BODY
인듐 (In), 갈륨 (Ga), 아연 (Zn), 산소 (O) 및 불가피적 불순물로 이루어지는 산화물 소결체로서, 상기 소결체에 존재하는 크랙의 평균 길이가 3 ㎛ 이상, 15 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 IGZO 소결체. DC 스퍼터링에 의한 성막시에 타깃 갈라짐이나 파티클 발생을 저감시켜, 양호한 박막을 형성할 수 있는 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다.
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING THE OXIDE SINTERED BODY
인듐 (In), 갈륨 (Ga), 아연 (Zn), 산소 (O) 및 불가피적 불순물로 이루어지는 산화물 소결체로서, 상기 소결체에 존재하는 크랙의 평균 길이가 3 ㎛ 이상, 15 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 IGZO 소결체. DC 스퍼터링에 의한 성막시에 타깃 갈라짐이나 파티클 발생을 저감시켜, 양호한 박막을 형성할 수 있는 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다.
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING THE OXIDE SINTERED BODY
산화물 소결체 및 그 산화물 소결체로 이루어지는 스퍼터링 타깃
YAMAGUCHI YOHEI (Autor:in) / KAKUTA KOJI (Autor:in)
25.10.2017
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2016
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
Europäisches Patentamt | 2018
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING THE OXIDE SINTERED BODY
Europäisches Patentamt | 2018
Sintered oxide body and sputtering target comprising said sintered oxide body
| Europäisches Patentamt | 2015