Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
TERNARY ALLOY PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS
FIELD: manufacturing technology.SUBSTANCE: invention relates to film materials for controlling sunlight, for use in glazing, and relates to low emissivity glass coatings panels obtained using ternary alloys. Methods and apparatus for forming low emissivity panels include a substrate and a reflective layer formed over the substrate. Low emissivity panels may further include a top dielectric layer formed over the reflective layer such that the reflective layer is formed between the top dielectric layer and the substrate. Top dielectric layer may include a metal oxide, such as zinc-tin-aluminium oxide. Top dielectric layer may also include aluminium. Concentration of aluminium may be between about 1 and 15 atomic %. Atomic ratio of zinc to tin in the top dielectric layer may be between about 0.67 and about 1.5.EFFECT: invention provides a thinner reflective layer, while providing emissivity suitable for low emission applications.19 cl, 7 dwg
Изобретение относится к пленочным материалам для управления солнечным светом для использования в остеклении и касается полученных с использованием тройных сплавов панелей с низкой излучательной способностью, включающих в себя подложку и отражающий слой, образованный поверх подложки, а также способов их формирования. Способы и устройство для формирования панелей с низкой излучательной способностью включают в себя подложку и отражающий слой, образованный поверх подложки. Панели с низкой излучательной способностью могут дополнительно включать верхний диэлектрический слой, образованный поверх отражающего слоя так, что отражающий слой образован между верхним диэлектрическим слоем и подложкой. Верхний диэлектрический слой может включать оксид металла, такой как оксид алюминия-олова-цинка. Верхний диэлектрический слой также может включать алюминий. Концентрация алюминия может составлять между 1 и 15 атомными %. Атомное отношение цинка к олову в верхнем диэлектрическом слое может составлять между 0,67 и 1,5. Изобретение обеспечивает создание более тонкого отражающего слоя, при этом обеспечивая излучательную способность, подходящую для низкоэмиссионных применений. 3 н. и 16 з.п. ф-лы, 7 ил.
TERNARY ALLOY PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS
FIELD: manufacturing technology.SUBSTANCE: invention relates to film materials for controlling sunlight, for use in glazing, and relates to low emissivity glass coatings panels obtained using ternary alloys. Methods and apparatus for forming low emissivity panels include a substrate and a reflective layer formed over the substrate. Low emissivity panels may further include a top dielectric layer formed over the reflective layer such that the reflective layer is formed between the top dielectric layer and the substrate. Top dielectric layer may include a metal oxide, such as zinc-tin-aluminium oxide. Top dielectric layer may also include aluminium. Concentration of aluminium may be between about 1 and 15 atomic %. Atomic ratio of zinc to tin in the top dielectric layer may be between about 0.67 and about 1.5.EFFECT: invention provides a thinner reflective layer, while providing emissivity suitable for low emission applications.19 cl, 7 dwg
Изобретение относится к пленочным материалам для управления солнечным светом для использования в остеклении и касается полученных с использованием тройных сплавов панелей с низкой излучательной способностью, включающих в себя подложку и отражающий слой, образованный поверх подложки, а также способов их формирования. Способы и устройство для формирования панелей с низкой излучательной способностью включают в себя подложку и отражающий слой, образованный поверх подложки. Панели с низкой излучательной способностью могут дополнительно включать верхний диэлектрический слой, образованный поверх отражающего слоя так, что отражающий слой образован между верхним диэлектрическим слоем и подложкой. Верхний диэлектрический слой может включать оксид металла, такой как оксид алюминия-олова-цинка. Верхний диэлектрический слой также может включать алюминий. Концентрация алюминия может составлять между 1 и 15 атомными %. Атомное отношение цинка к олову в верхнем диэлектрическом слое может составлять между 0,67 и 1,5. Изобретение обеспечивает создание более тонкого отражающего слоя, при этом обеспечивая излучательную способность, подходящую для низкоэмиссионных применений. 3 н. и 16 з.п. ф-лы, 7 ил.
TERNARY ALLOY PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS
ПОЛУЧЕННЫЕ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ТРОЙНЫХ СПЛАВОВ ПОКРЫТИЯ ИЗ СТЕКЛА С НИЗКОЙ ИЗЛУЧАТЕЛЬНОЙ СПОСОБНОСТЬЮ
CHZHAN GUJCHZHEN (Autor:in) / BOJS BRENT (Autor:in) / CHEN DZHEREMI (Autor:in) / IMRAN MUKHAMMED (Autor:in) / DIN GOVEN (Autor:in) / LE MINKH KHUU (Autor:in) / SHVAJGERT DANIEL (Autor:in) / SYUJ YUNLI (Autor:in)
13.12.2018
Patent
Elektronische Ressource
Russisch
IPC:
B32B
LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
,
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
/
C03C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails
,
CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS
/
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
E06B
Feste oder bewegliche Abschlüsse für Öffnungen in Bauwerken, Fahrzeugen, Zäunen oder ähnlichen Einfriedungen allgemein, z.B. Türen, Fenster, Läden, Tore
,
FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES, OR LIKE ENCLOSURES, IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
TERNARY ALLOY PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS
Europäisches Patentamt | 2019
|Europäisches Patentamt | 2017
|Europäisches Patentamt | 2016
|Europäisches Patentamt | 2019
|Europäisches Patentamt | 2017
|