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Provided is a plasma-resistant member characterized by comprising a base and a layer structure formed on a surface of the base by an aerosol deposition method, the layer structure comprising polycrystalline yttria and having plasma resistance, wherein the polycrystalline yttria constituting the layer structure has crystal structures comprising a mixture of a cubic system and a monoclinic system, the proportion of the monoclinic system to the cubic system in the polycrystalline yttria constituting the layer structure being 0-60%, and the polycrystalline yttria constituting the layer structure has a crystallite size of 8-50 nm.
L'invention concerne un élément résistant au plasma, caractérisé en ce qu'il comprend une base et une structure en couche formée sur une surface de la base par un procédé de dépôt d'aérosol, la structure en couche comprenant de l'oxyde d'yttrium polycristallin et ayant de la résistance au plasma, l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche ayant des structures cristallines comprenant un mélange d'un système cubique et d'un système monoclinique, la proportion du système monoclinique par rapport au système cubique dans l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche étant de 0 à 60 %, et l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche ayant une taille des cristallites de 8 à 50 nm.
基材と、前記基材の表面にエアロゾルデポジション法により形成されたイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物とを備え、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体は、立方晶と単斜晶とが混在した結晶構造を有し、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体中における、立方晶に対する単斜晶の割合は、0%以上60%以下であり、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶子サイズは、8nm以上50nm以下であることを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。
Provided is a plasma-resistant member characterized by comprising a base and a layer structure formed on a surface of the base by an aerosol deposition method, the layer structure comprising polycrystalline yttria and having plasma resistance, wherein the polycrystalline yttria constituting the layer structure has crystal structures comprising a mixture of a cubic system and a monoclinic system, the proportion of the monoclinic system to the cubic system in the polycrystalline yttria constituting the layer structure being 0-60%, and the polycrystalline yttria constituting the layer structure has a crystallite size of 8-50 nm.
L'invention concerne un élément résistant au plasma, caractérisé en ce qu'il comprend une base et une structure en couche formée sur une surface de la base par un procédé de dépôt d'aérosol, la structure en couche comprenant de l'oxyde d'yttrium polycristallin et ayant de la résistance au plasma, l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche ayant des structures cristallines comprenant un mélange d'un système cubique et d'un système monoclinique, la proportion du système monoclinique par rapport au système cubique dans l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche étant de 0 à 60 %, et l'oxyde d'yttrium polycristallin constituant la structure en couche ayant une taille des cristallites de 8 à 50 nm.
基材と、前記基材の表面にエアロゾルデポジション法により形成されたイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物とを備え、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体は、立方晶と単斜晶とが混在した結晶構造を有し、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体中における、立方晶に対する単斜晶の割合は、0%以上60%以下であり、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶子サイズは、8nm以上50nm以下であることを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。
PLASMA-RESISTANT MEMBER
ÉLÉMENT RÉSISTANT AU PLASMA
耐プラズマ性部材
IWASAWA JUNICHI (Autor:in)
30.12.2015
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch