Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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METALLIC FILM AND METALLIC FILM PRODUCTION METHOD
Provided are: a metallic film with high radio wave transmissivity and electrical insulating properties and having an indium layer, the hue of which has been made to approach blue, without significant increase in production cost or material cost; and a production method therefor. This metallic film is provided with an indium layer formed on a substrate surface. The mean area of the indium particles configuring said indium layer is not more than 20000 nm2. This metallic film production method comprises an indium film formation step for forming an indium layer on a substrate surface by vapor deposition of indium on the substrate surface. In said indium film formation step, indium is vapor-deposited on the substrate surface with the temperature of the substrate surface heated to at least 50°C.
L'invention concerne : un film métallique ayant une haute transmissivité des ondes radio et des propriétés d'isolation électrique et comprenant une couche d'indium, dont la teinte a été amenée à se rapprocher du bleu, sans augmentation importante du coût de production ou du coût des matériaux ; et un procédé de production s'y rapportant. Ce film métallique est doté d'une couche d'indium formée sur une surface de substrat. La surface moyenne des particules d'indium constituant ladite couche d'indium est inférieure ou égale à 2 000 nm2. Ce procédé de production de film métallique comprend une étape de formation de film d'indium consistant à former une couche d'indium sur une surface de substrat par dépôt en phase vapeur d'indium sur la surface du substrat. Dans ladite étape de formation de film d'indium, de l'indium est déposé en phase vapeur sur la surface du substrat, la température de la surface du substrat étant chauffée à au moins 50 °C.
高い電波透過性及び電気絶縁性を有し、且つ、製造コスト及び材料コストをさほど増加させることなく色相が青色に近づけられたインジウム層を有する金属調皮膜及びその製造方法を提供する。本発明に係る金属調皮膜は、基材表面上に成膜されたインジウム層を備える。このインジウム層を構成するインジウム粒子の平均面積は、２００００ｎｍ２以下である。また、本発明に係る金属調皮膜の製造方法は、インジウムを基材表面に蒸着させることにより、基材表面にインジウム層を成膜するインジウム成膜工程を含む。このインジウム成膜工程にて、基材表面の温度を５０℃以上に加熱した状態で、インジウムを基材表面に蒸着させる。
METALLIC FILM AND METALLIC FILM PRODUCTION METHOD
Provided are: a metallic film with high radio wave transmissivity and electrical insulating properties and having an indium layer, the hue of which has been made to approach blue, without significant increase in production cost or material cost; and a production method therefor. This metallic film is provided with an indium layer formed on a substrate surface. The mean area of the indium particles configuring said indium layer is not more than 20000 nm2. This metallic film production method comprises an indium film formation step for forming an indium layer on a substrate surface by vapor deposition of indium on the substrate surface. In said indium film formation step, indium is vapor-deposited on the substrate surface with the temperature of the substrate surface heated to at least 50°C.
L'invention concerne : un film métallique ayant une haute transmissivité des ondes radio et des propriétés d'isolation électrique et comprenant une couche d'indium, dont la teinte a été amenée à se rapprocher du bleu, sans augmentation importante du coût de production ou du coût des matériaux ; et un procédé de production s'y rapportant. Ce film métallique est doté d'une couche d'indium formée sur une surface de substrat. La surface moyenne des particules d'indium constituant ladite couche d'indium est inférieure ou égale à 2 000 nm2. Ce procédé de production de film métallique comprend une étape de formation de film d'indium consistant à former une couche d'indium sur une surface de substrat par dépôt en phase vapeur d'indium sur la surface du substrat. Dans ladite étape de formation de film d'indium, de l'indium est déposé en phase vapeur sur la surface du substrat, la température de la surface du substrat étant chauffée à au moins 50 °C.
高い電波透過性及び電気絶縁性を有し、且つ、製造コスト及び材料コストをさほど増加させることなく色相が青色に近づけられたインジウム層を有する金属調皮膜及びその製造方法を提供する。本発明に係る金属調皮膜は、基材表面上に成膜されたインジウム層を備える。このインジウム層を構成するインジウム粒子の平均面積は、２００００ｎｍ２以下である。また、本発明に係る金属調皮膜の製造方法は、インジウムを基材表面に蒸着させることにより、基材表面にインジウム層を成膜するインジウム成膜工程を含む。このインジウム成膜工程にて、基材表面の温度を５０℃以上に加熱した状態で、インジウムを基材表面に蒸着させる。
METALLIC FILM AND METALLIC FILM PRODUCTION METHOD
FILM MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM MÉTALLIQUE
金属調皮膜及び金属調皮膜の製造方法
HARA TAKASHI (Autor:in) / KATAYAMA KOSUKE (Autor:in)
31.03.2016
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
IPC:
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
B05D
PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
,
Verfahren zum Aufbringen von Flüssigkeiten oder von anderen fließfähigen Stoffen auf Oberflächen allgemein
/
B32B
LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
,
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
/
B60R
Fahrzeuge, Fahrzeugausstattung oder Fahrzeugteile, soweit nicht anderweitig vorgesehen
,
VEHICLES, VEHICLE FITTINGS, OR VEHICLE PARTS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
/
E05B
LOCKS
,
Schlösser
Color Oxide Film on Metallic Surface
| British Library Online Contents | 2002
Electron impinging on metallic thin film targets
| British Library Online Contents | 2010
| Europäisches Patentamt | 2023
Promising antimicrobial capability of thin film metallic glasses
| British Library Online Contents | 2014
Production of a metallic thin film on AlN surface by UV laser radiation
| British Library Online Contents | 1997