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OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
The present invention is related to an oxide sintered body which is formed from the metal elements In, Ga, Zn, and Sn, and includes a hexagonal layered compound represented by InGaO3(ZnO)m (m being an integer in the range of 1-6), wherein, when [In], [Zn], and [Sn] represent the ratios (atom%) of the content of each of In, Zn, and Sn to all metal elements included in the oxide sintered body and excluding oxygen, said ratios satisfy formulae (1)-(3), namely [Zn]≥40 atom%, [In]≤15 atom%, and [Sn]≤4 atom%. According to the present invention, the formation of cracks during bonding can be inhibited, even in an In-Ga-Zn-Sn oxide sintered body to which a large quantity of Zn has been added.
La présente invention concerne un corps fritté à base d'oxyde qui est formé à partir des éléments métalliques In, Ga, Zn et Sn, et comprend un composé stratifié hexagonal représenté par InGaO3(ZnO)m (m étant un nombre entier dans la plage de 1 à 6). Lorsque [In], [Zn], et [Sn] représentent les rapports (% atomique) de la teneur de chacun parmi In, Zn et Sn à tous les éléments métalliques inclus dans le corps fritté d'oxyde à l'exclusion de l'oxygène, lesdits rapports satisfont aux formules (1)-(3), à savoir [Zn] ≥ 40 % atomique, [In] ≤ 15 % atomique, et [Sn] ≤ 4 % atomique. Selon la présente invention, la formation de fissures pendant la liaison peut être inhibée, même dans un corps fritté à base d'oxyde In-Ga-Zn-Sn auquel une grande quantité de Zn a été ajoutée.
本発明は、金属元素がＩｎ、Ｇａ、Ｚｎ及びＳｎから構成され、ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは１～６の整数）で表わされる六方晶層状化合物を含む酸化物焼結体であって、前記酸化物焼結体に含まれる酸素を除く全金属元素に対する、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの含有量の割合（原子％）を、それぞれ［Ｉｎ］、［Ｚｎ］及び［Ｓｎ］としたとき、式（１）～（３）を満足する酸化物焼結体に関する。［Ｚｎ］≧４０原子％・・・（１）、［Ｉｎ］≦１５原子％・・・（２）、［Ｓｎ］≦４原子％・・・（３）。本発明によれば、Ｚｎが多量に添加されたＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｓｎ系酸化物焼結体においても、ボンディング時の割れの発生を抑制できる。
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
The present invention is related to an oxide sintered body which is formed from the metal elements In, Ga, Zn, and Sn, and includes a hexagonal layered compound represented by InGaO3(ZnO)m (m being an integer in the range of 1-6), wherein, when [In], [Zn], and [Sn] represent the ratios (atom%) of the content of each of In, Zn, and Sn to all metal elements included in the oxide sintered body and excluding oxygen, said ratios satisfy formulae (1)-(3), namely [Zn]≥40 atom%, [In]≤15 atom%, and [Sn]≤4 atom%. According to the present invention, the formation of cracks during bonding can be inhibited, even in an In-Ga-Zn-Sn oxide sintered body to which a large quantity of Zn has been added.
La présente invention concerne un corps fritté à base d'oxyde qui est formé à partir des éléments métalliques In, Ga, Zn et Sn, et comprend un composé stratifié hexagonal représenté par InGaO3(ZnO)m (m étant un nombre entier dans la plage de 1 à 6). Lorsque [In], [Zn], et [Sn] représentent les rapports (% atomique) de la teneur de chacun parmi In, Zn et Sn à tous les éléments métalliques inclus dans le corps fritté d'oxyde à l'exclusion de l'oxygène, lesdits rapports satisfont aux formules (1)-(3), à savoir [Zn] ≥ 40 % atomique, [In] ≤ 15 % atomique, et [Sn] ≤ 4 % atomique. Selon la présente invention, la formation de fissures pendant la liaison peut être inhibée, même dans un corps fritté à base d'oxyde In-Ga-Zn-Sn auquel une grande quantité de Zn a été ajoutée.
本発明は、金属元素がＩｎ、Ｇａ、Ｚｎ及びＳｎから構成され、ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは１～６の整数）で表わされる六方晶層状化合物を含む酸化物焼結体であって、前記酸化物焼結体に含まれる酸素を除く全金属元素に対する、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの含有量の割合（原子％）を、それぞれ［Ｉｎ］、［Ｚｎ］及び［Ｓｎ］としたとき、式（１）～（３）を満足する酸化物焼結体に関する。［Ｚｎ］≧４０原子％・・・（１）、［Ｉｎ］≦１５原子％・・・（２）、［Ｓｎ］≦４原子％・・・（３）。本発明によれば、Ｚｎが多量に添加されたＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｓｎ系酸化物焼結体においても、ボンディング時の割れの発生を抑制できる。
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
CORPS FRITTÉ À BASE D'OXYDE ET CIBLE DE PULVÉRISATION
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット
NISHIYAMA KOHEI (Autor:in) / TAO YUKI (Autor:in)
22.11.2018
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2016
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
Europäisches Patentamt | 2018