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SILICON NITRIDE POWDER FOR SINTERING
Provided is a silicon nitride powder for sintering which is a fine powder and yet shows an extremely small increase in oxygen concentration with time and has high storage stability. This silicon nitride powder for sintering, which has a specific surface area of 5-30 m2/g and which is characterized by having a hydrophobicity (M value) of 30 or more and showing an increase in oxygen concentration of 0.3 mass% or less after being left in air at a humidity of 90% and a temperature of 20°C for 48 hours, can be obtained by dry pulverizing an aggregate of silicon nitride under an inert atmosphere in the presence of a silane coupling agent.
L'invention concerne une poudre de nitrure de silicium pour frittage qui est une poudre fine et présente néanmoins une augmentation extrêmement faible de la concentration en oxygène avec le temps et a une stabilité de stockage élevée. Cette poudre de nitrure de silicium pour frittage, qui a une surface spécifique de 5 à 30 m2/g et qui est caractérisée en ce qu'elle présente une hydrophobicité (valeur M) de 30 ou plus et qu'elle présente une augmentation de la concentration en oxygène inférieure ou égale à 0,3 % en masse après avoir été laissée dans l'air à une humidité de 90 % et une température de 20°C pendant 48 heures, peut être obtenue par pulvérisation à sec d'un agrégat de nitrure de silicium sous atmosphère inerte en présence d'un agent de couplage au silane.
微粉でありながら、経時的な酸素濃度の増加量が極めて小さく、保存安定性に優れる焼結用窒化ケイ素粉末を提供する。 比表面積が５～３０ｍ２／ｇの窒化ケイ素粉末であって、疎水化度（Ｍ値）が３０以上、湿度９０％、２０℃の空気中に４８時間放置した後における酸素濃度の増加量が０．３質量％以下であることを特徴とする焼結用窒化ケイ素粉末であり、窒化ケイ素の凝集塊を、不活性雰囲気下、シランカップリング剤の存在下に乾式粉砕することにより得ることができる。
SILICON NITRIDE POWDER FOR SINTERING
Provided is a silicon nitride powder for sintering which is a fine powder and yet shows an extremely small increase in oxygen concentration with time and has high storage stability. This silicon nitride powder for sintering, which has a specific surface area of 5-30 m2/g and which is characterized by having a hydrophobicity (M value) of 30 or more and showing an increase in oxygen concentration of 0.3 mass% or less after being left in air at a humidity of 90% and a temperature of 20°C for 48 hours, can be obtained by dry pulverizing an aggregate of silicon nitride under an inert atmosphere in the presence of a silane coupling agent.
L'invention concerne une poudre de nitrure de silicium pour frittage qui est une poudre fine et présente néanmoins une augmentation extrêmement faible de la concentration en oxygène avec le temps et a une stabilité de stockage élevée. Cette poudre de nitrure de silicium pour frittage, qui a une surface spécifique de 5 à 30 m2/g et qui est caractérisée en ce qu'elle présente une hydrophobicité (valeur M) de 30 ou plus et qu'elle présente une augmentation de la concentration en oxygène inférieure ou égale à 0,3 % en masse après avoir été laissée dans l'air à une humidité de 90 % et une température de 20°C pendant 48 heures, peut être obtenue par pulvérisation à sec d'un agrégat de nitrure de silicium sous atmosphère inerte en présence d'un agent de couplage au silane.
微粉でありながら、経時的な酸素濃度の増加量が極めて小さく、保存安定性に優れる焼結用窒化ケイ素粉末を提供する。 比表面積が５～３０ｍ２／ｇの窒化ケイ素粉末であって、疎水化度（Ｍ値）が３０以上、湿度９０％、２０℃の空気中に４８時間放置した後における酸素濃度の増加量が０．３質量％以下であることを特徴とする焼結用窒化ケイ素粉末であり、窒化ケイ素の凝集塊を、不活性雰囲気下、シランカップリング剤の存在下に乾式粉砕することにより得ることができる。
SILICON NITRIDE POWDER FOR SINTERING
POUDRE DE NITRURE DE SILICIUM POUR FRITTAGE
焼結用窒化ケイ素粉末
KAWAI HIDEAKI (Autor:in) / WAKAMATSU SATORU (Autor:in)
21.10.2021
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Degreasing and sintering method of silicon nitride ceramic powder product
| Europäisches Patentamt | 2023
Effect of Powder Characteristics on Sintering Behavior of Silicon Nitride
| British Library Online Contents | 1994