Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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CERAMIC SUBSTRATE, CERAMIC CIRCUIT BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING SLURRY, AND METHOD FOR APPLYING RELEASE AGENT
In this ceramic substrate having a first surface and a second surface which are front and back, when the midpoint of a line segment connecting a center part P1 of the first surface and a center part P2 of the second surface is defined as a midpoint part C1, the component amount of a release agent measured at the center part P1 or the center part P2 is five times or more of the component amount of the release agent measured at the midpoint part C1. Further, it is preferable that the ratio P1/P2 of the component amount of the release agent measured at the center part P1 of the first surface to the component amount of the release agent measured at the center part P2 of the second surface satisfies 0.5≤P1/P2≤2.
Dans ce substrat céramique ayant une première surface et une seconde surface qui sont à l'avant et à l'arrière, lorsque le point médian d'un segment de ligne reliant une partie centrale P1 de la première surface et une partie centrale P2 de la seconde surface est défini comme une partie de point médian C1, la quantité de composant d'un agent de libération mesurée à la partie centrale P1 ou à la partie centrale P2 est cinq fois ou plus la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie de point médian C1. En outre, il est préférable que le rapport P1/P2 de la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie centrale P1 de la première surface à la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie centrale P2 de la seconde surface satisfait la relation 0,5≤P1/P2≤2.
表裏の第１表面及び第２表面を有するセラミックス基板は、前記第１表面の中心部Ｐ１と前記第２表面の中心部Ｐ２とを結んだ線分の中点を中点部Ｃ１としたとき、中心部Ｐ１または中心部Ｐ２において測定される離型剤の成分量が中点部Ｃ１で測定される離型剤の成分量の５倍以上である。さらに、前記第１表面の中心部Ｐ１において測定される離型剤の成分量と前記第２表面の中心部Ｐ２において測定される離型剤の成分量との比Ｐ１／Ｐ２が、０．５≦Ｐ１／Ｐ２≦２であることが好適である。
CERAMIC SUBSTRATE, CERAMIC CIRCUIT BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING SLURRY, AND METHOD FOR APPLYING RELEASE AGENT
In this ceramic substrate having a first surface and a second surface which are front and back, when the midpoint of a line segment connecting a center part P1 of the first surface and a center part P2 of the second surface is defined as a midpoint part C1, the component amount of a release agent measured at the center part P1 or the center part P2 is five times or more of the component amount of the release agent measured at the midpoint part C1. Further, it is preferable that the ratio P1/P2 of the component amount of the release agent measured at the center part P1 of the first surface to the component amount of the release agent measured at the center part P2 of the second surface satisfies 0.5≤P1/P2≤2.
Dans ce substrat céramique ayant une première surface et une seconde surface qui sont à l'avant et à l'arrière, lorsque le point médian d'un segment de ligne reliant une partie centrale P1 de la première surface et une partie centrale P2 de la seconde surface est défini comme une partie de point médian C1, la quantité de composant d'un agent de libération mesurée à la partie centrale P1 ou à la partie centrale P2 est cinq fois ou plus la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie de point médian C1. En outre, il est préférable que le rapport P1/P2 de la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie centrale P1 de la première surface à la quantité de composant de l'agent de libération mesurée à la partie centrale P2 de la seconde surface satisfait la relation 0,5≤P1/P2≤2.
表裏の第１表面及び第２表面を有するセラミックス基板は、前記第１表面の中心部Ｐ１と前記第２表面の中心部Ｐ２とを結んだ線分の中点を中点部Ｃ１としたとき、中心部Ｐ１または中心部Ｐ２において測定される離型剤の成分量が中点部Ｃ１で測定される離型剤の成分量の５倍以上である。さらに、前記第１表面の中心部Ｐ１において測定される離型剤の成分量と前記第２表面の中心部Ｐ２において測定される離型剤の成分量との比Ｐ１／Ｐ２が、０．５≦Ｐ１／Ｐ２≦２であることが好適である。
CERAMIC SUBSTRATE, CERAMIC CIRCUIT BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING SLURRY, AND METHOD FOR APPLYING RELEASE AGENT
SUBSTRAT CÉRAMIQUE, CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ EN CÉRAMIQUE, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE BOUILLIE ET PROCÉDÉ D'APPLICATION D'UN AGENT DE LIBÉRATION
セラミックス基板、セラミックス回路基板、半導体装置、スラリーの製造方法、及び、離型剤塗布方法
ITO ZEN (Autor:in) / HIGUCHI MASAAKI (Autor:in) / IMANAKA KEITA (Autor:in) / KIMURA MASAMITSU (Autor:in) / KONDO HIROYASU (Autor:in)
03.10.2024
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Ceramic circuit substrate and method for producing ceramic circuit substrate
| Europäisches Patentamt | 2019
CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE
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CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE
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CERAMIC SUBSTRATE, CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
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