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ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK
The present invention provides a technology with which it is possible to reduce scratches formed on a rear surface of a substrate that is held by an electrostatic chuck. This electrostatic chuck for holding a substrate comprises a dielectric body, and an electrode that is disposed inside the dielectric body. The dielectric body includes an upper surface and a plurality of protrusions that protrude upward from the upper surface and are configured so as to support the substrate. The protrusions each include a crystalline base part and a non-crystalline surface layer that is disposed on the base part.
La présente invention concerne une technologie avec laquelle il est possible de réduire les rayures formées sur une surface arrière d'un substrat qui est maintenu par un mandrin électrostatique. Ce mandrin électrostatique pour maintenir un substrat comprenant un corps diélectrique, et une électrode qui est disposée à l'intérieur du corps diélectrique. Le corps diélectrique comprend une surface supérieure et une pluralité de saillies qui font saillie vers le haut à partir de la surface supérieure et sont conçues de façon à supporter le substrat. Les saillies comprennent chacune une partie de base cristalline et une couche de surface non cristalline qui est disposée sur la partie de base.
静電チャックに保持された基板の裏面に生じる傷を低減することができる技術を提供する。静電チャックは、基板を保持する静電チャックであって、誘電体と、誘電体の内部に配置される電極と、を備え、誘電体は、上面と、上面から上方に突出し、基板を支持するように構成される複数の突起部と、を含み、突起部は、結晶質の基部と、基部上に配置される非結晶質の表面層と、を含む。
ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK
The present invention provides a technology with which it is possible to reduce scratches formed on a rear surface of a substrate that is held by an electrostatic chuck. This electrostatic chuck for holding a substrate comprises a dielectric body, and an electrode that is disposed inside the dielectric body. The dielectric body includes an upper surface and a plurality of protrusions that protrude upward from the upper surface and are configured so as to support the substrate. The protrusions each include a crystalline base part and a non-crystalline surface layer that is disposed on the base part.
La présente invention concerne une technologie avec laquelle il est possible de réduire les rayures formées sur une surface arrière d'un substrat qui est maintenu par un mandrin électrostatique. Ce mandrin électrostatique pour maintenir un substrat comprenant un corps diélectrique, et une électrode qui est disposée à l'intérieur du corps diélectrique. Le corps diélectrique comprend une surface supérieure et une pluralité de saillies qui font saillie vers le haut à partir de la surface supérieure et sont conçues de façon à supporter le substrat. Les saillies comprennent chacune une partie de base cristalline et une couche de surface non cristalline qui est disposée sur la partie de base.
静電チャックに保持された基板の裏面に生じる傷を低減することができる技術を提供する。静電チャックは、基板を保持する静電チャックであって、誘電体と、誘電体の内部に配置される電極と、を備え、誘電体は、上面と、上面から上方に突出し、基板を支持するように構成される複数の突起部と、を含み、突起部は、結晶質の基部と、基部上に配置される非結晶質の表面層と、を含む。
ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK
MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
静電チャック及び静電チャックの製造方法
KAWABATA ATSUSHI (Autor:in) / SATO MASANORI (Autor:in) / TSUNAMOTO TETSU (Autor:in)
06.03.2025
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
Europäisches Patentamt | 2018
Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck
| Europäisches Patentamt | 2016
Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck
| Europäisches Patentamt | 2017
METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
Europäisches Patentamt | 2017
| Europäisches Patentamt | 2023