A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Gasphasenabscheidung während einer additiven Fertigung
Verfahren zur Herstellung eines Objektes (252), das aufweist:(a) Schmelzen wenigstens eines Abschnitts einer gegebenen Schicht aus Baumaterial, um wenigstens einen geschmolzenen Bereich zu bilden;(b) Bereitstellen einer nachfolgenden Schicht aus Baumaterial auf einer Bauoberfläche;(c) Wiederholen der Schritte (a) und (b), bis das Objekt (252) gebildet ist; und(d) wenigstens einen Schritt der Abscheidung eines zweiten Materials (282) durch chemische Gasphasenabscheidung während der Bildung des Objektes (252), wobei in dem Schritt (d) Dampf freigesetzt und nahe der Bauoberfläche abgeschieden wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Abscheiden des zweiten Materials (282) unter Verwendung einer CVD-Einheit (280) zur chemischen Gasphasenabscheidung durchgeführt wird, die unabhängig von einem Schmelzmechanismus (250, 262) bewegbar ist, der zur Bildung des wenigstens einen geschmolzenen Bereiches verwendet wird.
The present disclosure generally relates to methods and apparatuses for chemical vapor deposition (CVD) during additive manufacturing (AM) processes. Such methods and apparatuses can be used to embed chemical signatures into manufactured objects, and such embedded chemical signatures may find use in anti-counterfeiting operations and in manufacture of objects with multiple materials.
Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Gasphasenabscheidung während einer additiven Fertigung
Verfahren zur Herstellung eines Objektes (252), das aufweist:(a) Schmelzen wenigstens eines Abschnitts einer gegebenen Schicht aus Baumaterial, um wenigstens einen geschmolzenen Bereich zu bilden;(b) Bereitstellen einer nachfolgenden Schicht aus Baumaterial auf einer Bauoberfläche;(c) Wiederholen der Schritte (a) und (b), bis das Objekt (252) gebildet ist; und(d) wenigstens einen Schritt der Abscheidung eines zweiten Materials (282) durch chemische Gasphasenabscheidung während der Bildung des Objektes (252), wobei in dem Schritt (d) Dampf freigesetzt und nahe der Bauoberfläche abgeschieden wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Abscheiden des zweiten Materials (282) unter Verwendung einer CVD-Einheit (280) zur chemischen Gasphasenabscheidung durchgeführt wird, die unabhängig von einem Schmelzmechanismus (250, 262) bewegbar ist, der zur Bildung des wenigstens einen geschmolzenen Bereiches verwendet wird.
The present disclosure generally relates to methods and apparatuses for chemical vapor deposition (CVD) during additive manufacturing (AM) processes. Such methods and apparatuses can be used to embed chemical signatures into manufactured objects, and such embedded chemical signatures may find use in anti-counterfeiting operations and in manufacture of objects with multiple materials.
Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Gasphasenabscheidung während einer additiven Fertigung
GOLD SCOTT ALAN (author)
2024-02-08
Patent
Electronic Resource
German
IPC:
B29C
Formen oder Verbinden von Kunststoffen
,
SHAPING OR JOINING OF PLASTICS
/
B22F
Verarbeiten von Metallpulver
,
WORKING METALLIC POWDER
/
B33Y
ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
,
Additive (generative) Fertigung, d. h. die Herstellung von dreidimensionalen [3D] Bauteilen durch additive Abscheidung, additive Agglomeration oder additive Schichtung, z. B. durch 3D- Drucken, Stereolithografie oder selektives Lasersintern
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
| European Patent Office | 2022