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Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials, pulverförmiges Precursormaterial und seine Verwendung
Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials für ein optoelektronisches Bauelement (100) mit einer ersten Phase der folgenden allgemeinen Zusammensetzungwobei X ein Aktivator ist, der aus der Gruppe der Lanthanoide ausgewählt ist,wobei gilt: 0 < a < 1 und 0 ≤ b < 1 und 0 ≤ c < 1 und 0 ≤ d < 1 und 0 ≤ e < 1,mit den VerfahrensschrittenA) Herstellen einer pulverförmigen Mischung von Edukten,wobei die Edukte Ionen der oben genannten Zusammensetzung umfassen,wobei als Edukt mindestens Siliziumnitrid mit einer spezifischen Oberfläche von größer oder gleich 9 m/g ausgewählt wird,wobei das Siliziumnitrid alpha-Siliziumnitrid umfasst oder amorph ist, undB) Glühen der Mischung unter Schutzgasatmosphäre,wobei nach Schritt B) das pulverförmige Precursormaterial hergestellt ist, das einen ersten Korngrößenwert dund einen zweiten Korngrößenwert dund einen dritten Korngrößenwert daufweist,wobei der erste Korngrößenwert dkleiner als 1 µm,wobei der zweite Korngrößenwert dkleiner als 5 µm, undwobei der dritte Korngrößenwert dkleiner als 20 µm ist.
A method can be used for producing a powdery precursor material for an optoelectronic component having a first phase of the following general composition (Ca1-a-b-c-d-eZndMgeSrcBabXa)2Si5N8, wherein X is an activator that is selected from the group of the lanthanoids and wherein the following applies: 0
Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials, pulverförmiges Precursormaterial und seine Verwendung
Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials für ein optoelektronisches Bauelement (100) mit einer ersten Phase der folgenden allgemeinen Zusammensetzungwobei X ein Aktivator ist, der aus der Gruppe der Lanthanoide ausgewählt ist,wobei gilt: 0 < a < 1 und 0 ≤ b < 1 und 0 ≤ c < 1 und 0 ≤ d < 1 und 0 ≤ e < 1,mit den VerfahrensschrittenA) Herstellen einer pulverförmigen Mischung von Edukten,wobei die Edukte Ionen der oben genannten Zusammensetzung umfassen,wobei als Edukt mindestens Siliziumnitrid mit einer spezifischen Oberfläche von größer oder gleich 9 m/g ausgewählt wird,wobei das Siliziumnitrid alpha-Siliziumnitrid umfasst oder amorph ist, undB) Glühen der Mischung unter Schutzgasatmosphäre,wobei nach Schritt B) das pulverförmige Precursormaterial hergestellt ist, das einen ersten Korngrößenwert dund einen zweiten Korngrößenwert dund einen dritten Korngrößenwert daufweist,wobei der erste Korngrößenwert dkleiner als 1 µm,wobei der zweite Korngrößenwert dkleiner als 5 µm, undwobei der dritte Korngrößenwert dkleiner als 20 µm ist.
A method can be used for producing a powdery precursor material for an optoelectronic component having a first phase of the following general composition (Ca1-a-b-c-d-eZndMgeSrcBabXa)2Si5N8, wherein X is an activator that is selected from the group of the lanthanoids and wherein the following applies: 0
Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen Precursormaterials, pulverförmiges Precursormaterial und seine Verwendung
KECHELE JULIANE (author) / DALLMEIR SIMON (author) / TRAGL SONJA (author) / BICHLER DANIEL (author) / POHL-KLEIN BIANCA (author)
2019-11-14
Patent
Electronic Resource
German
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