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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma resistant member capable of reducing particles and stably maintaining a chamber condition.SOLUTION: The plasma resistant member comprises: a base material; and a layer structure including a yttria polycrystal formed on the surface of the base material by an aerosol deposition method and having plasma resistance. The crystal structure of the yttria polycrystal constituting the layer structure has cubic and monoclinic crystals mixed together. The monoclinic ratio to the cubic crystal is 60% or less. The crystallite size of the yttria polycrystalline substance constituting the layer structure is 50 nm or less.
【課題】パーティクルを低減させることができ、チャンバーコンディションを安定的に維持することができる耐プラズマ性部材を提供することを目的とする。【解決手段】基材と、前記基材の表面にエアロゾルデポジション法により形成されたイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物とを備え、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶構造は、立方晶と単斜晶とが混在し、立方晶に対する単斜晶の比が60%以下であり、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶子サイズが50nm以下であることを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。【選択図】図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma resistant member capable of reducing particles and stably maintaining a chamber condition.SOLUTION: The plasma resistant member comprises: a base material; and a layer structure including a yttria polycrystal formed on the surface of the base material by an aerosol deposition method and having plasma resistance. The crystal structure of the yttria polycrystal constituting the layer structure has cubic and monoclinic crystals mixed together. The monoclinic ratio to the cubic crystal is 60% or less. The crystallite size of the yttria polycrystalline substance constituting the layer structure is 50 nm or less.
【課題】パーティクルを低減させることができ、チャンバーコンディションを安定的に維持することができる耐プラズマ性部材を提供することを目的とする。【解決手段】基材と、前記基材の表面にエアロゾルデポジション法により形成されたイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物とを備え、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶構造は、立方晶と単斜晶とが混在し、立方晶に対する単斜晶の比が60%以下であり、前記層状構造物を構成するイットリア多結晶体の結晶子サイズが50nm以下であることを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。【選択図】図1
PLASMA RESISTANT MEMBER
耐プラズマ性部材
IWAZAWA JUNICHI (author)
2016-01-18
Patent
Electronic Resource
Japanese