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MANUFACTURING METHOD OF GYPSUM DIHYDRATE SLURRY USING GYPSUM HEMIHYDRATE AS RAW MATERIAL
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that scale of gypsum dihydrate grows up on an inner wall of a slurry generation tank when generating slurry of gypsum dihydrate by charging gypsum hemihydrate powder continuously and blending with water, where the problem is remarkable when the particle size of the gypsum hemihydrate powder is small.SOLUTION: Of an inner wall of a slurry generation tank, a portion above a slurry water surface is heated at over 40°C, preferably over 50°C, or more preferably over 60°C. The growth of the scale can be prevented by preventing condensing by the heating because the growth of the scale is due to a reaction of moisture condensing on a side wall of the slurry generation tank and scattered gypsum hemihydrate.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】 半水石膏の粉末を連続的に投入し、水と混合して二水石膏のスラリーを生成する場合、スラリー生成槽の内壁に二水石膏のスケールが成長する問題があった。この問題は、半水石膏粉末の粒度が小さいとき顕著であった。【解決手段】 スラリー生成槽の内壁のうち、スラリー水面以上の部分を40℃以上、好ましくは50℃以上、特に好ましくは60℃以上に加熱する。スケールの成長は、スラリー生成槽の側壁に凝結する水分と、飛散している半水石膏の反応によるものであるため、上記加熱によって凝結を防止することにより、スケールの成長も防止可能となる。【選択図】 図1
MANUFACTURING METHOD OF GYPSUM DIHYDRATE SLURRY USING GYPSUM HEMIHYDRATE AS RAW MATERIAL
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that scale of gypsum dihydrate grows up on an inner wall of a slurry generation tank when generating slurry of gypsum dihydrate by charging gypsum hemihydrate powder continuously and blending with water, where the problem is remarkable when the particle size of the gypsum hemihydrate powder is small.SOLUTION: Of an inner wall of a slurry generation tank, a portion above a slurry water surface is heated at over 40°C, preferably over 50°C, or more preferably over 60°C. The growth of the scale can be prevented by preventing condensing by the heating because the growth of the scale is due to a reaction of moisture condensing on a side wall of the slurry generation tank and scattered gypsum hemihydrate.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】 半水石膏の粉末を連続的に投入し、水と混合して二水石膏のスラリーを生成する場合、スラリー生成槽の内壁に二水石膏のスケールが成長する問題があった。この問題は、半水石膏粉末の粒度が小さいとき顕著であった。【解決手段】 スラリー生成槽の内壁のうち、スラリー水面以上の部分を40℃以上、好ましくは50℃以上、特に好ましくは60℃以上に加熱する。スケールの成長は、スラリー生成槽の側壁に凝結する水分と、飛散している半水石膏の反応によるものであるため、上記加熱によって凝結を防止することにより、スケールの成長も防止可能となる。【選択図】 図1
MANUFACTURING METHOD OF GYPSUM DIHYDRATE SLURRY USING GYPSUM HEMIHYDRATE AS RAW MATERIAL
半水石膏を原料とした二水石膏スラリーの製造方法
HIRANAKA SHINGO (author)
2016-06-09
Patent
Electronic Resource
Japanese
MANUFACTURING METHOD OF GYPSUM SLURRY USING GYPSUM HEMIHYDRATE AS RAW MATERIAL
European Patent Office | 2016
|European Patent Office | 2018
|European Patent Office | 2021