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THERMAL SPRAY DEPOSIT
To provide a thermal spray deposit capable of satisfying desired physical properties in an electrode for a current heating-type catalytic device.SOLUTION: A thermal spray deposit satisfies at least one of the following (i) to (ii) and at least one of the following (iii) to (iv): (i) a metal fraction of 20 to 60%; (ii) a bentonite fraction of 40 to 80%; (iii) a metal oxidation fraction of 7% or less; and (iv) a bentonite grain size of 40 μm or less.SELECTED DRAWING: None
【課題】通電加熱式触媒装置用電極において所望の物性を満たすことができる溶射膜の提供。【解決手段】以下の(i)~(ii)のうちの少なくとも1つを満たし、かつ、以下の(iii)~(iv)のうちの少なくとも1つを満たすことを特徴とする溶射膜:(i)金属率は、20~60%である;(ii)ベントナイト率は、40~80%である;(iii)金属酸化率は、7%以下である;(iv)ベントナイト粒径は、40μm以下である。【選択図】なし
THERMAL SPRAY DEPOSIT
To provide a thermal spray deposit capable of satisfying desired physical properties in an electrode for a current heating-type catalytic device.SOLUTION: A thermal spray deposit satisfies at least one of the following (i) to (ii) and at least one of the following (iii) to (iv): (i) a metal fraction of 20 to 60%; (ii) a bentonite fraction of 40 to 80%; (iii) a metal oxidation fraction of 7% or less; and (iv) a bentonite grain size of 40 μm or less.SELECTED DRAWING: None
【課題】通電加熱式触媒装置用電極において所望の物性を満たすことができる溶射膜の提供。【解決手段】以下の(i)~(ii)のうちの少なくとも1つを満たし、かつ、以下の(iii)~(iv)のうちの少なくとも1つを満たすことを特徴とする溶射膜:(i)金属率は、20~60%である;(ii)ベントナイト率は、40~80%である;(iii)金属酸化率は、7%以下である;(iv)ベントナイト粒径は、40μm以下である。【選択図】なし
THERMAL SPRAY DEPOSIT
溶射膜
HIRAMATSU SHINICHI (author) / SHIMODA KENJI (author) / SHIMAZAKI SHINOBU (author) / OKAMOTO NAOKI (author) / NORO TAKASHI (author)
2024-08-13
Patent
Electronic Resource
Japanese
The Dynamics of Deposit Formation in Thermal-Spray Processes
British Library Online Contents | 2000
|European Patent Office | 2016
|Spray Forming Processing of Fe - Si Alloy Deposit
British Library Online Contents | 2002
|PID Control of Deposit Dimension during Spray Forming
British Library Online Contents | 2005
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