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SOUND ABSORBING STRUCTURE FOR ANECHOIC CHAMBER AND ANECHOIC CHAMBER INCLUDING THE SAME
본 기술은 개구부를 포함하는 외형틀; 상기 외형틀 내에 형성되고, 상기 외형틀의 개구부를 향하는 후면과 반대편의 전면을 포함하는 구멍 뚫린 판상 부재; 및 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 후면과 상기 외형틀의 개구부 사이에 삽입되는 후면흡음재를 포함하는 무향실용 흡음구조체, 개구부를 포함하는 외형틀; 상기 외형틀 내에 형성되고, 상기 외형틀의 개구부를 향하는 후면과 반대편의 전면을 포함하는 구멍 뚫린 판상 부재; 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 전면과 상기 외형틀 사이에 삽입되는 전면흡음재; 및 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 후면과 상기 외형틀의 개구부 사이에 삽입되는 후면흡음재를 포함하는 무향실용 흡음구조체 및 이를 포함하는 무향실에 관한 것이다. 본 기술에 따르면, 구멍 뚫린 판상 부재의 진동에 의한 공진 효과 및 이러한 공진 효과를 증진시켜 공진주파수와 그 부근 주파수 영역으로 넓게 흡음력을 상승시키는 후면흡음재의 작용에 의해 저 주파수 대역에서 우수한 흡음 효과를 발휘할 수 있고, 동시에 전면에 위치한 전면흡음재에 의해 고 주파수 대역에서 우수한 흡음 효과를 발휘할 수 있으며, 나아가, 이러한 흡음 효과의 합성에 의해 중 주파수 대역에서의 흡음 효과도 함께 높일 수 있다.
SOUND ABSORBING STRUCTURE FOR ANECHOIC CHAMBER AND ANECHOIC CHAMBER INCLUDING THE SAME
본 기술은 개구부를 포함하는 외형틀; 상기 외형틀 내에 형성되고, 상기 외형틀의 개구부를 향하는 후면과 반대편의 전면을 포함하는 구멍 뚫린 판상 부재; 및 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 후면과 상기 외형틀의 개구부 사이에 삽입되는 후면흡음재를 포함하는 무향실용 흡음구조체, 개구부를 포함하는 외형틀; 상기 외형틀 내에 형성되고, 상기 외형틀의 개구부를 향하는 후면과 반대편의 전면을 포함하는 구멍 뚫린 판상 부재; 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 전면과 상기 외형틀 사이에 삽입되는 전면흡음재; 및 상기 구멍 뚫린 판상 부재의 후면과 상기 외형틀의 개구부 사이에 삽입되는 후면흡음재를 포함하는 무향실용 흡음구조체 및 이를 포함하는 무향실에 관한 것이다. 본 기술에 따르면, 구멍 뚫린 판상 부재의 진동에 의한 공진 효과 및 이러한 공진 효과를 증진시켜 공진주파수와 그 부근 주파수 영역으로 넓게 흡음력을 상승시키는 후면흡음재의 작용에 의해 저 주파수 대역에서 우수한 흡음 효과를 발휘할 수 있고, 동시에 전면에 위치한 전면흡음재에 의해 고 주파수 대역에서 우수한 흡음 효과를 발휘할 수 있으며, 나아가, 이러한 흡음 효과의 합성에 의해 중 주파수 대역에서의 흡음 효과도 함께 높일 수 있다.
SOUND ABSORBING STRUCTURE FOR ANECHOIC CHAMBER AND ANECHOIC CHAMBER INCLUDING THE SAME
무향실용 흡음구조체 및 이를 포함하는 무향실
2019-03-22
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
E04B
Allgemeine Baukonstruktionen
,
GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS
SOUND ABSORBING STRUCTURE FOR ANECHOIC CHAMBER AND ANECHOIC CHAMBER INCLUDING THE SAME
European Patent Office | 2018
|Sound absorbing structure for anechoic chamber and anechoic chamber including the same
European Patent Office | 2019
|SOUND ABSORBING STRUCTURE FOR ANECHOIC CHAMBER AND ANECHOIC CHAMBER INCLUDING THE SAME
European Patent Office | 2018
|Sound absorption assembly for anechoic chamber and anechoic chamber
European Patent Office | 2021
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