A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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METHOD FOR PRODUCING INDIUM HYDROXIDE POWDER METHOD FOR PRODUCING INDIUM OXIDE POWDER AND SPUTTERING TARGET
입경이 균일하고 입도 분포폭이 좁은 수산화인듐 가루를 제조한다. 양극에 금속 인듐을 이용한 전해에 의해 수산화인듐 가루를 제조하는 방법에 있어서, 전해액의 전해질 농도를 0.1∼2.0 mol/L로 하고, pH를 2.5∼5.0, 액온을 20∼60℃로 하며, 전극 전류 밀도를 4∼20 A/dm로 하고, 석출한 수산화인듐 가루를 포함하는 전해 슬러리의 농도가 2∼15%의 범위 내가 되도록 전해를 행한다.
METHOD FOR PRODUCING INDIUM HYDROXIDE POWDER METHOD FOR PRODUCING INDIUM OXIDE POWDER AND SPUTTERING TARGET
입경이 균일하고 입도 분포폭이 좁은 수산화인듐 가루를 제조한다. 양극에 금속 인듐을 이용한 전해에 의해 수산화인듐 가루를 제조하는 방법에 있어서, 전해액의 전해질 농도를 0.1∼2.0 mol/L로 하고, pH를 2.5∼5.0, 액온을 20∼60℃로 하며, 전극 전류 밀도를 4∼20 A/dm로 하고, 석출한 수산화인듐 가루를 포함하는 전해 슬러리의 농도가 2∼15%의 범위 내가 되도록 전해를 행한다.
METHOD FOR PRODUCING INDIUM HYDROXIDE POWDER METHOD FOR PRODUCING INDIUM OXIDE POWDER AND SPUTTERING TARGET
수산화인듐 가루의 제조 방법 및 산화인듐 가루의 제조 방법, 및 스퍼터링 타겟
2020-07-03
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
C25B
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON- METALS
,
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren für die Herstellung von Verbindungen oder von nichtmetallischen Elementen
/
C01G
Verbindungen der von den Unterklassen C01D oder C01F nicht umfassten Metalle
,
COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
| European Patent Office | 2016
| European Patent Office | 2016