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CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
The purpose of the present invention is to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical molded body, and a method for manufacturing the cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and the cylindrical molded body or to provide the cylindrical sputtering target with high homogeneity, the cylindrical sintered body, and the cylindrical molded body, and the manufacturing method thereof. A sputtering target according to an embodiment of the present invention includes the cylindrical sintered body. The relative density of the cylindrical sintered body is 99.7-99.9%. In addition, the cylindrical sputtering target includes multiple adjoining cylindrical sintered bodies while a predetermined space is formed between the cylindrical sintered bodies. A difference on the relative density of the multiple adjoining cylindrical sintered bodies is 0.1% or less.
본 발명은, 변형이 적고 강도가 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또는, 균질성이 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 스퍼터링 타겟은, 원통형 소결체를 갖고, 원통형 소결체의 상대 밀도는 99.7% 이상 99.9% 이하이다. 또한, 원통형 스퍼터링 타겟은, 일정한 스페이스를 개입시켜 인접하는 복수의 원통형 소결체를 갖고, 인접하는 복수의 원통형 소결체 간의 상대 밀도의 차이는 0.1% 이하일 수 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
The purpose of the present invention is to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical molded body, and a method for manufacturing the cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and the cylindrical molded body or to provide the cylindrical sputtering target with high homogeneity, the cylindrical sintered body, and the cylindrical molded body, and the manufacturing method thereof. A sputtering target according to an embodiment of the present invention includes the cylindrical sintered body. The relative density of the cylindrical sintered body is 99.7-99.9%. In addition, the cylindrical sputtering target includes multiple adjoining cylindrical sintered bodies while a predetermined space is formed between the cylindrical sintered bodies. A difference on the relative density of the multiple adjoining cylindrical sintered bodies is 0.1% or less.
본 발명은, 변형이 적고 강도가 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또는, 균질성이 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 스퍼터링 타겟은, 원통형 소결체를 갖고, 원통형 소결체의 상대 밀도는 99.7% 이상 99.9% 이하이다. 또한, 원통형 스퍼터링 타겟은, 일정한 스페이스를 개입시켜 인접하는 복수의 원통형 소결체를 갖고, 인접하는 복수의 원통형 소결체 간의 상대 밀도의 차이는 0.1% 이하일 수 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 성형체, 및 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 및 원통형 성형체의 제조 방법
YAMAGUCHI YOHEI (author)
2016-10-06
Patent
Electronic Resource
Korean
| European Patent Office | 2016
| European Patent Office | 2017