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EMISSIVITY CONTROLLED COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS
반도체 프로세싱 챔버를 위한 구성요소로서, 이 구성요소는 기재 및 이 기재의 표면 상에 제공되는 코팅 층을 포함하고, 코팅 층은 적어도 제1 코팅 층을 포함하고, 적어도 제1 코팅 층은 0.98 초과 내지 1의 열 방사율을 가지고, 플라즈마 내성을 가지며, 그 두께 방향을 통해서 35 내지 40 범위의 컬러 값(L)을 갖는다.
EMISSIVITY CONTROLLED COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS
반도체 프로세싱 챔버를 위한 구성요소로서, 이 구성요소는 기재 및 이 기재의 표면 상에 제공되는 코팅 층을 포함하고, 코팅 층은 적어도 제1 코팅 층을 포함하고, 적어도 제1 코팅 층은 0.98 초과 내지 1의 열 방사율을 가지고, 플라즈마 내성을 가지며, 그 두께 방향을 통해서 35 내지 40 범위의 컬러 값(L)을 갖는다.
EMISSIVITY CONTROLLED COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS
반도체 챔버 구성요소를 위한 방사율 제어된 코팅
NAIM MAHMOOD (author) / HAMMERICH DAVID (author)
2017-03-06
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
C01F
COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
,
Verbindungen der Metalle Beryllium, Magnesium, Aluminium, Calcium, Strontium, Barium, Radium, Thorium oder der Seltenen Erden
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
C09K
Materialien für Anwendungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
,
MATERIALS FOR APPLICATIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
Emissivity controlled coatings for semiconductor chamber components
European Patent Office | 2017
|EMISSIVITY CONTROLLED COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS
European Patent Office | 2015
|EMISSIVITY CONTROLLED COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS
European Patent Office | 2019
Alternative coatings to cyanide silver coatings with low infrared emissivity for tokamak components
Elsevier | 2024
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