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Method for selectively controlling photoreduction and heat reduction of graphene oxide under flash annealing
The present invention provides a method of controlling photoreduction and heat reduction of graphene during flash annealing, the method comprising: a first step of selecting a bottom material and/or structure of a substrate or a container for receiving a graphene oxide which exhibits photoreduction efficiency and heat reduction efficiency of graphene during flash annealing at certain levels; and a second step of performing a flash annealing process of the graphene oxide on the substrate or container of the material and/or structure selected in the first step. Furthermore, the present invention provides a method of removing, preserving and/or introducing a specific functional group on the graphene oxide, the method comprising: a first step of selecting a flash annealing condition for controlling photoreduction and heat reduction of graphene; and a second step of performing a flash annealing process of the graphene oxide at the flash annealing condition selected in the first step. The present invention provides a method of selectively controlling photoreduction and/or heat reduction of graphene during flash annealing. Further, the present invention preserves and/or deletes a desired functional group only or can freely change annealing efficiency by changing the flash annealing condition.
본 발명은 플래시 어닐링 시 그래핀의 광환원 및 열환원을 제어하는 방법으로서, 플래시 어닐링 시 그래핀의 광환원 효율 및 열환원 효율을 각각 소정의 수준으로 발휘하는, 산화 그래핀을 수용하는 기판 또는 용기의 바닥 소재 및/또는 구조를 선택하는 제1단계; 및 제1단계에서 선택된 소재 및/또는 구조의 기판 또는 용기 상에서 산화 그래핀에 플래시 어닐링을 수행하는 제2단계를 포함하는 것이 특징인 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 산화 그래핀 상의 특정 작용기를 제거, 보존 및/또는 도입하는 방법으로서, 그래핀의 광환원 및 열환원을 제어하기 위해 플래시 어닐링의 조건을 선택하는 제1단계; 및 제1단계에서 선택된 플래시 어닐링 조건에서 산화 그래핀에 플래시 어닐링을 수행하는 제2단계를 포함하는 것이 특징인 방법을 제공한다.
Method for selectively controlling photoreduction and heat reduction of graphene oxide under flash annealing
The present invention provides a method of controlling photoreduction and heat reduction of graphene during flash annealing, the method comprising: a first step of selecting a bottom material and/or structure of a substrate or a container for receiving a graphene oxide which exhibits photoreduction efficiency and heat reduction efficiency of graphene during flash annealing at certain levels; and a second step of performing a flash annealing process of the graphene oxide on the substrate or container of the material and/or structure selected in the first step. Furthermore, the present invention provides a method of removing, preserving and/or introducing a specific functional group on the graphene oxide, the method comprising: a first step of selecting a flash annealing condition for controlling photoreduction and heat reduction of graphene; and a second step of performing a flash annealing process of the graphene oxide at the flash annealing condition selected in the first step. The present invention provides a method of selectively controlling photoreduction and/or heat reduction of graphene during flash annealing. Further, the present invention preserves and/or deletes a desired functional group only or can freely change annealing efficiency by changing the flash annealing condition.
본 발명은 플래시 어닐링 시 그래핀의 광환원 및 열환원을 제어하는 방법으로서, 플래시 어닐링 시 그래핀의 광환원 효율 및 열환원 효율을 각각 소정의 수준으로 발휘하는, 산화 그래핀을 수용하는 기판 또는 용기의 바닥 소재 및/또는 구조를 선택하는 제1단계; 및 제1단계에서 선택된 소재 및/또는 구조의 기판 또는 용기 상에서 산화 그래핀에 플래시 어닐링을 수행하는 제2단계를 포함하는 것이 특징인 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 산화 그래핀 상의 특정 작용기를 제거, 보존 및/또는 도입하는 방법으로서, 그래핀의 광환원 및 열환원을 제어하기 위해 플래시 어닐링의 조건을 선택하는 제1단계; 및 제1단계에서 선택된 플래시 어닐링 조건에서 산화 그래핀에 플래시 어닐링을 수행하는 제2단계를 포함하는 것이 특징인 방법을 제공한다.
Method for selectively controlling photoreduction and heat reduction of graphene oxide under flash annealing
플래시 어닐링 시 그래핀의 광환원 및 열환원을 선택적으로 제어하는 방법
LEE JEONG O (author) / JEONG DU WON (author) / LEE SUN SOOK (author) / JEONG SUN HO (author) / LEE GEON HEE (author) / JI SEUL GI (author) / KIM TAE GON (author)
2018-07-11
Patent
Electronic Resource
Korean
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