A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SHOWERHEAD
반도체 제조 장치의 챔버 내에서 웨이퍼 유지체에 대향하여 마련되는 샤워 헤드로서, 판형의 세라믹스 기체와, 세라믹스 기체를 두께 방향으로 관통하는 복수의 관통 구멍과, 세라믹스 기체를 웨이퍼 유지체에 대향하는 면측에서 본 복수의 존 내에 각각 매설된 고주파용의 복수의 도전체를 구비한다.
A showerhead provided in a chamber of a semiconductor manufacturing apparatus and facing a wafer holder includes: a plate-shaped ceramic substrate; a plurality of through holes penetrating the ceramic substrate in the direction of the thickness of the ceramic substrate; and a plurality of radio frequency conductors embedded in a plurality of zones, respectively, of the ceramic substrate, as seen on the side of a surface of the ceramic substrate facing the wafer holder.
SHOWERHEAD
반도체 제조 장치의 챔버 내에서 웨이퍼 유지체에 대향하여 마련되는 샤워 헤드로서, 판형의 세라믹스 기체와, 세라믹스 기체를 두께 방향으로 관통하는 복수의 관통 구멍과, 세라믹스 기체를 웨이퍼 유지체에 대향하는 면측에서 본 복수의 존 내에 각각 매설된 고주파용의 복수의 도전체를 구비한다.
A showerhead provided in a chamber of a semiconductor manufacturing apparatus and facing a wafer holder includes: a plate-shaped ceramic substrate; a plurality of through holes penetrating the ceramic substrate in the direction of the thickness of the ceramic substrate; and a plurality of radio frequency conductors embedded in a plurality of zones, respectively, of the ceramic substrate, as seen on the side of a surface of the ceramic substrate facing the wafer holder.
SHOWERHEAD
샤워 헤드
KIMURA KOICHI (author) / MIKUMO AKIRA (author) / SAKITA SHIGENOBU (author)
2023-06-05
Patent
Electronic Resource
Korean