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CERAMIC SINTERED BODY AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICE
The ceramic sintered body according to the present disclosure contains yttrium oxide as a main component and yttrium silicate, wherein the ratio (I1/Io) of the maximum peak strength I1 of yttrium silicate at a diffraction angle 2θ of 30°-32° with respect to the maximum peak strength Io of yttrium oxide at a diffraction angle 2θ of 28°-30°, determined by an X-ray diffraction technique, is 0.03-0.12. The member for a plasma treatment device according to the present disclosure comprises the ceramic sintered body according to the present disclosure, is in the shape of a cylinder, the inside of which serves as a flow path of a gas for generating a plasma. The inner circumferential surface of the cylinder contains more yttrium silicate than the outer circumferential surface of the cylinder.
L'invention concerne un corps fritté en céramique contenant de l'oxyde d'yttrium en tant que constituant principal et du silicate d'yttrium, le rapport (I1/Io) de l'intensité maximale de pic I1 du silicate d'yttrium à un angle de diffraction 2θ de 30°-32° par rapport à l'intensité maximale de pic Io de l'oxyde d'yttrium à un angle de diffraction 2θ de 28°-30°, déterminées par une technique de diffraction des rayons X, étant de 0,03-0,12. L'élément pour un dispositif de traitement au plasma selon la présente invention comprend le corps fritté en céramique selon la présente invention, se présente sous la forme d'un cylindre dont l'intérieur sert de trajet d'écoulement à un gaz pour générer un plasma. La surface circonférentielle interne du cylindre contient plus de silicate d'yttrium que la surface circonférentielle externe du cylindre.
本開示のセラミック焼結体は、酸化イットリウムを主成分とし、珪酸イットリウムを含み、Ｘ線回折法によって得られる、回折角２θが２８°～３０°の酸化イットリウムの最大ピーク強度Ｉoに対する、回折角２θが３０°～３２°の珪酸イットリウムの最大ピーク強度Ｉ1の比（Ｉ1／Ｉo）が０．０３以上０．１２以下である。本開示のプラズマ処理装置用部材は、本開示のセラミック焼結体からなり、内部がプラズマ生成用ガスの流路となる筒状体であり、前記筒状体の内周面は前記筒状体の外周面よりも珪酸イットリウムを多く含む。
CERAMIC SINTERED BODY AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICE
The ceramic sintered body according to the present disclosure contains yttrium oxide as a main component and yttrium silicate, wherein the ratio (I1/Io) of the maximum peak strength I1 of yttrium silicate at a diffraction angle 2θ of 30°-32° with respect to the maximum peak strength Io of yttrium oxide at a diffraction angle 2θ of 28°-30°, determined by an X-ray diffraction technique, is 0.03-0.12. The member for a plasma treatment device according to the present disclosure comprises the ceramic sintered body according to the present disclosure, is in the shape of a cylinder, the inside of which serves as a flow path of a gas for generating a plasma. The inner circumferential surface of the cylinder contains more yttrium silicate than the outer circumferential surface of the cylinder.
L'invention concerne un corps fritté en céramique contenant de l'oxyde d'yttrium en tant que constituant principal et du silicate d'yttrium, le rapport (I1/Io) de l'intensité maximale de pic I1 du silicate d'yttrium à un angle de diffraction 2θ de 30°-32° par rapport à l'intensité maximale de pic Io de l'oxyde d'yttrium à un angle de diffraction 2θ de 28°-30°, déterminées par une technique de diffraction des rayons X, étant de 0,03-0,12. L'élément pour un dispositif de traitement au plasma selon la présente invention comprend le corps fritté en céramique selon la présente invention, se présente sous la forme d'un cylindre dont l'intérieur sert de trajet d'écoulement à un gaz pour générer un plasma. La surface circonférentielle interne du cylindre contient plus de silicate d'yttrium que la surface circonférentielle externe du cylindre.
本開示のセラミック焼結体は、酸化イットリウムを主成分とし、珪酸イットリウムを含み、Ｘ線回折法によって得られる、回折角２θが２８°～３０°の酸化イットリウムの最大ピーク強度Ｉoに対する、回折角２θが３０°～３２°の珪酸イットリウムの最大ピーク強度Ｉ1の比（Ｉ1／Ｉo）が０．０３以上０．１２以下である。本開示のプラズマ処理装置用部材は、本開示のセラミック焼結体からなり、内部がプラズマ生成用ガスの流路となる筒状体であり、前記筒状体の内周面は前記筒状体の外周面よりも珪酸イットリウムを多く含む。
CERAMIC SINTERED BODY AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICE
CORPS FRITTÉ EN CÉRAMIQUE ET ÉLÉMENT POUR DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
セラミック焼結体およびプラズマ処理装置用部材
TANAKA MANPEI (author)
2020-01-02
Patent
Electronic Resource
Japanese
CERAMIC SINTERED BODY AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICE
| European Patent Office | 2022
Ceramic sintered body and member for plasma processing apparatus
| European Patent Office | 2024
CERAMIC SINTERED BODY AND MEMBER FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
| European Patent Office | 2021
CERAMIC SINTERED BODY, ABRASION RESISTANT MEMBER, AND METHOD FOR PRODUCING CERAMIC SINTERED BODY
| European Patent Office | 2025
CERAMIC SINTERED BODY AND PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND MEMBER MADE OF SAID CERAMIC SINTERED BODY
| European Patent Office | 2017