The present application relates to the technical field of clean workshops. Disclosed is a clean room capable of inhibiting gaseous molecular pollutants from diffusing. The clean room comprises a pressure regulation device assembly for regulating the air pressure in an upper technical interlayer dual-wall lane, such that during normal production, the air pressure in the upper technical interlayer dual-wall lane is higher than the air pressure in an adjacent upper technical interlayer with a pollution source and the air pressure in an adjacent upper technical interlayer without the pollution source; and/or for regulating the air pressure in a lower technical interlayer dual-wall lane, such that during normal production, the air pressure in the lower technical interlayer dual-wall lane is higher than the air pressure in an adjacent lower technical interlayer with the pollution source and the air pressure in an adjacent lower technical interlayer without the pollution source, or during normal production, the air pressure in the lower technical interlayer dual-wall lane is lower than the air pressure in the adjacent lower technical interlayer with the pollution source and the air pressure in the lower technical interlayer without the pollution source. The clean room disclosed in the present application can reduce or avoid the situation where pollutants generated by a production area with a pollution source enter a production area without the pollution source, thereby improving the yield of products in the production area without the pollution source.

La présente invention se rapporte au domaine technique des ateliers propres. L'invention concerne une salle propre susceptible d'empêcher la diffusion de polluants moléculaires gazeux. La salle propre comprend un ensemble dispositif de régulation de pression pour réguler la pression d'air dans une voie de double paroi de couche intermédiaire technique supérieure, de sorte que, lors de la production normale, la pression d'air dans la voie de double paroi de couche intermédiaire technique supérieure soit supérieure à la pression d'air dans une couche intermédiaire technique supérieure adjacente avec une source de pollution et la pression d'air dans une couche intermédiaire technique supérieure adjacente sans la source de pollution ; et/ou pour réguler la pression d'air dans une voie de double paroi de couche intermédiaire technique inférieure, de sorte que, lors de la production normale, la pression d'air dans la voie de double paroi de couche intermédiaire technique inférieure soit supérieure à la pression d'air dans une couche intermédiaire technique inférieure adjacente avec la source de pollution et la pression d'air dans une couche intermédiaire technique inférieure adjacente sans la source de pollution ou, lors de la production normale, la pression d'air dans la voie de double paroi de couche intermédiaire technique inférieure soit inférieure à la pression d'air dans la couche intermédiaire technique inférieure adjacente avec la source de pollution et la pression d'air dans la couche intermédiaire technique inférieure sans la source de pollution. La salle propre décrite dans la présente invention peut réduire ou éviter la situation dans laquelle des polluants générés par une zone de production avec une source de pollution entrent dans une zone de production sans la source de pollution, ce qui permet d'améliorer le rendement de produits dans la zone de production sans la source de pollution.

本申请涉及洁净厂房技术领域，公开了一种抑制气体分子污染物扩散的洁净室，包括调压设备组件，用于调节上技术夹层双墙夹道内气压，以正常生产时使上技术夹层双墙夹道内的气压高于与其相邻的带污染源上技术夹层和无污染源上技术夹层内的气压；和/或，用于调节下技术夹层双墙夹道内气压，以正常生产时使下技术夹层双墙夹道内的气压高于与其相邻的带污染源下技术夹层和无污染源下技术夹层内的气压，或，以正常生产时使下技术夹层双墙夹道内的气压低于与其相邻的带污染源下技术夹层和无污染源下技术夹层内的气压。本申请公开的洁净室，可以降低或避免带污染源生产区产生的污染物进入到无污染源生产区中，以提高无污染源生产区中产品的良率。