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CERAMIC PLATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
One aspect of the present disclosure is to provide a ceramic plate containing silicon nitride and YMgSi2O5N, the ceramic plate having a maximum YMgSi2O5N content that is less than 8.0 mass% in terms of the total, as determined by quantitative assay of the surface composition using X-ray diffraction .
Un aspect de la présente invention concerne une plaque céramique contenant du nitrure de silicium et du YMgSi2O5N, la plaque céramique ayant une teneur maximale en YMgSi2O5N qui est inférieure à 8,0 % en masse en termes de total, comme déterminé par essai quantitatif de la composition de surface par diffraction des rayons X.
本開示の一側面は、窒化ケイ素及びＹＭｇＳｉ２Ｏ５Ｎを含有するセラミック板であって、Ｘ線回折法によって表面における組成の定量分析を行った場合の上記ＹＭｇＳｉ２Ｏ５Ｎの含有率の最大値が、全量を基準として８．０質量％未満である、セラミック板を提供する。
CERAMIC PLATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
One aspect of the present disclosure is to provide a ceramic plate containing silicon nitride and YMgSi2O5N, the ceramic plate having a maximum YMgSi2O5N content that is less than 8.0 mass% in terms of the total, as determined by quantitative assay of the surface composition using X-ray diffraction .
Un aspect de la présente invention concerne une plaque céramique contenant du nitrure de silicium et du YMgSi2O5N, la plaque céramique ayant une teneur maximale en YMgSi2O5N qui est inférieure à 8,0 % en masse en termes de total, comme déterminé par essai quantitatif de la composition de surface par diffraction des rayons X.
本開示の一側面は、窒化ケイ素及びＹＭｇＳｉ２Ｏ５Ｎを含有するセラミック板であって、Ｘ線回折法によって表面における組成の定量分析を行った場合の上記ＹＭｇＳｉ２Ｏ５Ｎの含有率の最大値が、全量を基準として８．０質量％未満である、セラミック板を提供する。
CERAMIC PLATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
PLAQUE CÉRAMIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
セラミック板及びその製造方法
YAMAGATA TOSHITAKA (author) / YAMAGUCHI MITSUHIRO (author) / HIGASHI RIKI (author)
2021-09-30
Patent
Electronic Resource
Japanese
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
CERAMIC PLATE-LIKE BODY AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
| European Patent Office | 2016