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SILICON NITRIDE POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
One aspect of the present disclosure provides a silicon nitride powder which contains primary particles of silicon nitride, wherein: each one of the primary particles has an oxide film on at least a part of the surface; and the thickness of the oxide film is 20.0 nm or less.
Un aspect de la présente invention concerne une poudre de nitrure de silicium qui contient des particules primaires de nitrure de silicium, chacune des particules primaires comportant un film d'oxyde sur au moins une partie de la surface ; et l'épaisseur du film d'oxyde est inférieure ou égale à 20,0 nm.
本開示の一側面は、窒化ケイ素の一次粒子を含み、上記一次粒子は、表面の少なくとも一部に酸化膜を有し、上記酸化膜の厚みが20.0nm以下である、窒化ケイ素粉末を提供する。
SILICON NITRIDE POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
One aspect of the present disclosure provides a silicon nitride powder which contains primary particles of silicon nitride, wherein: each one of the primary particles has an oxide film on at least a part of the surface; and the thickness of the oxide film is 20.0 nm or less.
Un aspect de la présente invention concerne une poudre de nitrure de silicium qui contient des particules primaires de nitrure de silicium, chacune des particules primaires comportant un film d'oxyde sur au moins une partie de la surface ; et l'épaisseur du film d'oxyde est inférieure ou égale à 20,0 nm.
本開示の一側面は、窒化ケイ素の一次粒子を含み、上記一次粒子は、表面の少なくとも一部に酸化膜を有し、上記酸化膜の厚みが20.0nm以下である、窒化ケイ素粉末を提供する。
SILICON NITRIDE POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
POUDRE DE NITRURE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN CORPS FRITTÉ DE NITRURE DE SILICIUM
窒化ケイ素粉末、及び窒化ケイ素焼結体の製造方法
NAKAMURA YUZO (author) / MIYASHITA TOSHIYUKI (author)
2021-10-07
Patent
Electronic Resource
Japanese
SILICON NITRIDE POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
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European Patent Office | 2022
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European Patent Office | 2021
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