A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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MATERIAL FOR CERAMIC BALL, DEVICE FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY, AND METHOD FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY
A material for a ceramic ball according to the present embodiment is characterized in that a deviation from spherical form is 2% or less, and an arithmetic mean roughness Ra is 0.2 μm to 2 μm inclusive. Moreover, in the material for a ceramic ball, a maximum cross-sectional height Rt is preferably 4 μm to 20 μm inclusive. Furthermore, in the material for a ceramic ball, Ra1/Ra2 is preferably 0.2 to 2, where Ra1 is the surface roughness Ra in a circumferential direction of a belt-like mark, and Ra2 is the surface roughness Ra of a circumference in a direction perpendicular to the belt-like mark.
Un matériau pour une bille en céramique selon le présent mode de réalisation est caractérisé en ce qu'un écart par rapport à la forme sphérique est inférieur ou égal à 2 %, et une rugosité moyenne arithmétique Ra est comprise entre 0,2 μm et 2 μm, limites incluses. De plus, dans le matériau pour une bille en céramique, une hauteur de section transversale maximale Rt est préférentiellement comprise entre 4 μm et 20 μm, limites incluses. En outre, dans le matériau pour une bille céramique, Ra1/Ra2 est préférentiellement compris de 0,2 et 2, Ra1 étant la rugosité de surface Ra dans un sens circonférentiel d'une marque de type bande, et Ra2 étant la rugosité de surface Ra d'une circonférence dans un sens perpendiculaire à la marque de type bande.
実施形態に係るセラミックスボール用素材は、真球度が２％以下であり、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上２μｍ以下となることを特徴とする。また、当該セラミックスボール用素材は、最大断面高さＲｔが４μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。また、当該セラミックスボール用素材は、帯状部痕の円周方向の表面粗さＲａをＲａ１、帯状部痕に垂直方向の円周の表面粗さＲａをＲａ２としたとき、Ｒａ１／Ｒａ２が０．２以上２以下であることが好ましい。
MATERIAL FOR CERAMIC BALL, DEVICE FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY, AND METHOD FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY
A material for a ceramic ball according to the present embodiment is characterized in that a deviation from spherical form is 2% or less, and an arithmetic mean roughness Ra is 0.2 μm to 2 μm inclusive. Moreover, in the material for a ceramic ball, a maximum cross-sectional height Rt is preferably 4 μm to 20 μm inclusive. Furthermore, in the material for a ceramic ball, Ra1/Ra2 is preferably 0.2 to 2, where Ra1 is the surface roughness Ra in a circumferential direction of a belt-like mark, and Ra2 is the surface roughness Ra of a circumference in a direction perpendicular to the belt-like mark.
Un matériau pour une bille en céramique selon le présent mode de réalisation est caractérisé en ce qu'un écart par rapport à la forme sphérique est inférieur ou égal à 2 %, et une rugosité moyenne arithmétique Ra est comprise entre 0,2 μm et 2 μm, limites incluses. De plus, dans le matériau pour une bille en céramique, une hauteur de section transversale maximale Rt est préférentiellement comprise entre 4 μm et 20 μm, limites incluses. En outre, dans le matériau pour une bille céramique, Ra1/Ra2 est préférentiellement compris de 0,2 et 2, Ra1 étant la rugosité de surface Ra dans un sens circonférentiel d'une marque de type bande, et Ra2 étant la rugosité de surface Ra d'une circonférence dans un sens perpendiculaire à la marque de type bande.
実施形態に係るセラミックスボール用素材は、真球度が２％以下であり、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以上２μｍ以下となることを特徴とする。また、当該セラミックスボール用素材は、最大断面高さＲｔが４μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。また、当該セラミックスボール用素材は、帯状部痕の円周方向の表面粗さＲａをＲａ１、帯状部痕に垂直方向の円周の表面粗さＲａをＲａ２としたとき、Ｒａ１／Ｒａ２が０．２以上２以下であることが好ましい。
MATERIAL FOR CERAMIC BALL, DEVICE FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY, AND METHOD FOR PROCESSING CERAMIC FORMED BODY
MATÉRIAU POUR UNE BILLE EN CÉRAMIQUE, DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN CORPS FORMÉ EN CÉRAMIQUE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN CORPS FORMÉ EN CÉRAMIQUE
セラミックスボール用素材、セラミックス成形体の加工装置、および、セラミックス成形体の加工方法
SANO SHOYA (author) / YAMADA KATSUHIKO (author) / SAKAI RYO (author) / YAMAGUTI HARUHIKO (author) / FUNAKI KAI (author) / AKIYA SUGURU (author) / KIJIMA KOUICHI (author)
2024-01-11
Patent
Electronic Resource
Japanese
Method for manufacturing ceramic formed body, and apparatus for manufacturing ceramic formed body
| European Patent Office | 2019