A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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Beschichtung von gasgetragenen Nanopartikeln mit SiO2 mithilfe eines plasma‐unterstützten CVD‐Prozesses bei UmgebungsbedingungenCoating of Gas‐Borne Nanoparticles with SiO2 in a Plasma‐Assisted CVD Process at Ambient Conditions
Ein plasma‐unterstützer Aerosolprozess wird vorgestellt, der die kontinuierliche Beschichtung von Partikeln mit Siliziumoxid bei Umgebungstemperatur ermöglicht. Dabei wird eine dielektrische Barriere‐Entladung genutzt, um verschiedene reaktive Spezies zu erzeugen. Tetraethylorthosilikat dient als Precursor. Da der Prozess bei Umgebungstemperatur erfolgt, können auch temperaturempfindliche Stoffe beschichtet werden. Ein weiterer Vorteil ist die weitgehende Unabhängigkeit des Prozesses von der Partikelquelle. Die erfolgreiche Beschichtung wird auf unterschiedlichen Partikelgeometrien und ‐materialien, wie Metallen, Salzen und Kunststoffen demonstriert und die Abhängigkeit der Schichtdicke von der Partikeloberfläche gezeigt. Zudem wird die im Prozess auftretende Änderung der Partikelanzahlkonzentration, die im Wesentlichen durch Agglomeration verursacht wird, diskutiert.
A plasma‐assisted aerosol process is presented, which allows the continuous coating of particles with silicon oxide at ambient temperature. A dielectric barrier discharge plasma is applied to produce different reactive species. Tetraethyl orthosilicate is used as precursor. No elevated temperatures are necessary to perform the coating so that even temperature‐sensitive materials can be coated. Another advantage is the independence of the process from the particle source. The successful coating is demonstrated on different particle geometries and materials such as metals, salts and polymers and the dependence of the coating thickness on the particle surface area is shown. Furthermore, the change in particle number concentration along the coating reactor is primarily caused by agglomeration.
Beschichtung von gasgetragenen Nanopartikeln mit SiO2 mithilfe eines plasma‐unterstützten CVD‐Prozesses bei UmgebungsbedingungenCoating of Gas‐Borne Nanoparticles with SiO2 in a Plasma‐Assisted CVD Process at Ambient Conditions
Ein plasma‐unterstützer Aerosolprozess wird vorgestellt, der die kontinuierliche Beschichtung von Partikeln mit Siliziumoxid bei Umgebungstemperatur ermöglicht. Dabei wird eine dielektrische Barriere‐Entladung genutzt, um verschiedene reaktive Spezies zu erzeugen. Tetraethylorthosilikat dient als Precursor. Da der Prozess bei Umgebungstemperatur erfolgt, können auch temperaturempfindliche Stoffe beschichtet werden. Ein weiterer Vorteil ist die weitgehende Unabhängigkeit des Prozesses von der Partikelquelle. Die erfolgreiche Beschichtung wird auf unterschiedlichen Partikelgeometrien und ‐materialien, wie Metallen, Salzen und Kunststoffen demonstriert und die Abhängigkeit der Schichtdicke von der Partikeloberfläche gezeigt. Zudem wird die im Prozess auftretende Änderung der Partikelanzahlkonzentration, die im Wesentlichen durch Agglomeration verursacht wird, diskutiert.
A plasma‐assisted aerosol process is presented, which allows the continuous coating of particles with silicon oxide at ambient temperature. A dielectric barrier discharge plasma is applied to produce different reactive species. Tetraethyl orthosilicate is used as precursor. No elevated temperatures are necessary to perform the coating so that even temperature‐sensitive materials can be coated. Another advantage is the independence of the process from the particle source. The successful coating is demonstrated on different particle geometries and materials such as metals, salts and polymers and the dependence of the coating thickness on the particle surface area is shown. Furthermore, the change in particle number concentration along the coating reactor is primarily caused by agglomeration.
Beschichtung von gasgetragenen Nanopartikeln mit SiO2 mithilfe eines plasma‐unterstützten CVD‐Prozesses bei UmgebungsbedingungenCoating of Gas‐Borne Nanoparticles with SiO2 in a Plasma‐Assisted CVD Process at Ambient Conditions
Post, Patrick (author) / Weber, Alfred P. (author)
Chemie Ingenieur Technik ; 90 ; 443-450
2018-04-01
8 pages
Article (Journal)
Electronic Resource
English
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2022