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Ein neuer Positivresist fuer die Deep-UV Lithographie

Schwalm, R. / Germany; Federal Republic; Bundesministers fur Forschung und Technologie

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Titel:

Ein neuer Positivresist fuer die Deep-UV Lithographie

Beteiligte:

Schwalm, R. (Autor:in) / Germany; Federal Republic; Bundesministers fur Forschung und Technologie

Kongress:

2 Symposium, Materialforschung ; 1991 ; Dresden; Germany

Erschienen in:

Materialforschung ; 484-506

SYMPOSIUM MATERIALFORSCHUNG- BUNDESMINISTERS FUR FORSCHUNG UND TECHNOLOGIE ; 1

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

23 pages

Anmerkungen:

In 3 vols. Vols 1-2 received only

ISBN:

3824900203

Medientyp:

Aufsatz (Konferenz)

Format:

Sprache:

Deutsch

Schlagwörter:

materialforschung , BMFT , forschung , technologie

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