Epitaxial Growth of Copper Film by MOCVD: Fid-Bau Portal

Epitaxial Growth of Copper Film by MOCVD

Tu, R. / Huang, J. / Zhang, S. / Zhang, L. M.

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Titel:

Epitaxial Growth of Copper Film by MOCVD

Beteiligte:

Tu, R. (Autor:in) / Huang, J. (Autor:in) / Zhang, S. (Autor:in) / Zhang, L. M. (Autor:in)

Kongress:

Testing and evaluation of advanced materials (Annual meeting)

Erschienen in:

Testing and evaluation of advanced materials (Annual meeting) ; 507-510

Key engineering materials ; 680

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Konferenz)

Format:

Sprache:

Englisch

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