Macro-effects of resputtering due to negative ion bombardment of growing thin films: Fid-Bau Portal

Macro-effects of resputtering due to negative ion bombardment of growing thin films

Kester, D. J. / Messier, R.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Macro-effects of resputtering due to negative ion bombardment of growing thin films

Kester, D. J. / Messier, R.

Macro-effects of resputtering due to negative ion bombardment of growing thin films

Kester, D. J. / Messier, R.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Macro-effects of resputtering due to negative ion bombardment of growing thin films

Beteiligte:

Kester, D. J. (Autor:in) / Messier, R. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 8 ; 1928

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

1928 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

Kester, D. J. / Messier, R. | British Library Online Contents | 1993

Influence of negative ion resputtering on Al-doped ZnO thin films prepared by mid-frequency magnetron sputtering

Cai, Y. / Liu, W. / He, Q. et al. | British Library Online Contents | 2010

Study of the resputtering effect during rf-sputter deposition of YBCO films

Xu, J.-H. et al. | British Library Online Contents | 1995

Particle Bombardment Effects in Thin Film Deposition

Harper, James M. E. | Springer Verlag | 1990

Effect of electron bombardment on the properties of ZnO thin films

Karuppasamy, A. / Subrahmanyam, A. | British Library Online Contents | 2007

Nach oben