Influence of negative ion resputtering on Al-doped ZnO thin films prepared by mid-frequency magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Influence of negative ion resputtering on Al-doped ZnO thin films prepared by mid-frequency magnetron sputtering

Cai, Y. / Liu, W. / He, Q. / Zhang, Y. / Yu, T. / Sun, Y.

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Titel:

Influence of negative ion resputtering on Al-doped ZnO thin films prepared by mid-frequency magnetron sputtering

Beteiligte:

Cai, Y. (Autor:in) / Liu, W. (Autor:in) / He, Q. (Autor:in) / Zhang, Y. (Autor:in) / Yu, T. (Autor:in) / Sun, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 1694-1697

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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