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    Titel:

    Deposition rates of titanium nitride plates prepared by chemical vapour deposition of TiCl~4 + NH~3 system

    Beteiligte:

    Jiang, C.-C. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in) / Hirai, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 28 ; 6446

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1993

    Format / Umfang:

    6446 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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