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High-rate deposition of titanium silicides under high gas flow rate by chemical vapour deposition

Kawai, C.

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Titel:

High-rate deposition of titanium silicides under high gas flow rate by chemical vapour deposition

Beteiligte:

Kawai, C. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 13 ; 860

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

860 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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