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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Interrupted cycle chemical beam epitaxy of gallium phosphide on silicon with or without photon assistance

    Beteiligte:

    Kelliher, J. T. (Autor:in) / Miller, A. E. (Autor:in) / Dietz, N. (Autor:in) / Habermehl, S. (Autor:in) / Dieleman, J. / Biermann, U. K. P. / Hess, P.

    Erschienen in:

    Photon-Assisted Processing of Surfaces and Thin Films ; 453

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 86

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1995

    Format / Umfang:

    453 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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