Interstitials in Silicon Produced by Electron Beam Doping (Superdiffusion): Fid-Bau Portal

Interstitials in Silicon Produced by Electron Beam Doping (Superdiffusion)

Wada, T. / Hagino, T. / Fujimoto, H. / Masuda, H.

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Titel:

Interstitials in Silicon Produced by Electron Beam Doping (Superdiffusion)

Beteiligte:

Wada, T. (Autor:in) / Hagino, T. (Autor:in) / Fujimoto, H. (Autor:in) / Masuda, H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 1613-1618

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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