Effects of Ne^+ implantation and rapid thermal annealing on the microstructure and electrical properties of YBCO thin films: Fid-Bau Portal

Effects of Ne^+ implantation and rapid thermal annealing on the microstructure and electrical properties of YBCO thin films

Li, Y. H. / Staton-Bevan, A. E. / Tate, T. J. / Lee, M. J. / Li, Y. / Kilner, J. A. / Somekh, R. E.

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Titel:

Effects of Ne^+ implantation and rapid thermal annealing on the microstructure and electrical properties of YBCO thin films

Beteiligte:

Li, Y. H. (Autor:in) / Staton-Bevan, A. E. (Autor:in) / Tate, T. J. (Autor:in) / Lee, M. J. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / Kilner, J. A. (Autor:in) / Somekh, R. E. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 15 ; 1836-1838

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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