Plasma etching of InGaP, AlInP and AlGaP in BCl~3 environments: Fid-Bau Portal

Plasma etching of InGaP, AlInP and AlGaP in BCl~3 environments

Hong, J. / Lee, J. W. / Santana, C. J. / Abernathy, C. R. / Pearton, S. J. / Hobson, W. S. / Ren, F.

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Titel:

Plasma etching of InGaP, AlInP and AlGaP in BCl~3 environments

Beteiligte:

Hong, J. (Autor:in) / Lee, J. W. (Autor:in) / Santana, C. J. (Autor:in) / Abernathy, C. R. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in) / Hobson, W. S. (Autor:in) / Ren, F. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 41 ; 247-252

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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