IR laser induced CVD of SiO~2 phases from triethoxysilane and tetraethoxysilane: Fid-Bau Portal

IR laser induced CVD of SiO~2 phases from triethoxysilane and tetraethoxysilane

Drinek, V. / Bastl, Z. / Subrt, J. / Pola, J.

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Titel:

IR laser induced CVD of SiO~2 phases from triethoxysilane and tetraethoxysilane

Beteiligte:

Drinek, V. (Autor:in) / Bastl, Z. (Autor:in) / Subrt, J. (Autor:in) / Pola, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 108 ; 283-288

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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