SiH~4 and GeH~4 chemical vapor deposition of GeSi/Ge heterostructures: Fid-Bau Portal

SiH~4 and GeH~4 chemical vapor deposition of GeSi/Ge heterostructures

Gu, S. / Zhu, X. / Jiang, N. / Shi, Y. / Zhang, R. / Zheng, Y.

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Titel:

SiH~4 and GeH~4 chemical vapor deposition of GeSi/Ge heterostructures

Beteiligte:

Gu, S. (Autor:in) / Zhu, X. (Autor:in) / Jiang, N. (Autor:in) / Shi, Y. (Autor:in) / Zhang, R. (Autor:in) / Zheng, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 115 ; 28-30

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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