Nitridation of Al~2O~3 and GaAs surfaces by control enhanced ECR plasma: Fid-Bau Portal

Nitridation of Al~2O~3 and GaAs surfaces by control enhanced ECR plasma

Mutoh, H. / O'Keeffe, P. / Den, S. / Komuro, S. / Morikawa, T. / Park, Y. J. / Hara, K. / Munekata, H. / Kukimoto, H.

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Titel:

Nitridation of Al~2O~3 and GaAs surfaces by control enhanced ECR plasma

Beteiligte:

Mutoh, H. (Autor:in) / O'Keeffe, P. (Autor:in) / Den, S. (Autor:in) / Komuro, S. (Autor:in) / Morikawa, T. (Autor:in) / Park, Y. J. (Autor:in) / Hara, K. (Autor:in) / Munekata, H. (Autor:in) / Kukimoto, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 113/114 ; 622-626

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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