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Formation of buried epitaxial CoSi~2 layer through diffusion mediated reaction

Prabhakaran, K. / Sumitomo, K. / Ogino, T.

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Titel:

Formation of buried epitaxial CoSi~2 layer through diffusion mediated reaction

Beteiligte:

Prabhakaran, K. (Autor:in) / Sumitomo, K. (Autor:in) / Ogino, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 117/118 ; 280-284

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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