AlN epitaxial growth on atomically flat initially nitrided �-Al~2O~3 wafer: Fid-Bau Portal

AlN epitaxial growth on atomically flat initially nitrided -Al~2O~3 wafer

Suetsugu, T. / Yamazaki, T. / Tomabechi, S. / Wada, K. / Masu, K. / Tsubouchi, K.

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Titel:

AlN epitaxial growth on atomically flat initially nitrided -Al~2O~3 wafer

Beteiligte:

Suetsugu, T. (Autor:in) / Yamazaki, T. (Autor:in) / Tomabechi, S. (Autor:in) / Wada, K. (Autor:in) / Masu, K. (Autor:in) / Tsubouchi, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 117/118 ; 540-545

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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