Mechanism of stabilizing RuO~2/Ta~2N double layer thin film resistors: Fid-Bau Portal

Mechanism of stabilizing RuO~2/Ta~2N double layer thin film resistors

Ma, E. / Anderson, W. A.

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Titel:

Mechanism of stabilizing RuO~2/Ta~2N double layer thin film resistors

Beteiligte:

Ma, E. (Autor:in) / Anderson, W. A. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 47 ; 161-166

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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