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Polymer resist materials for excimer ablation lithography

Suzuki, K. / Matsuda, M. / Hayashi, N.

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Titel:

Polymer resist materials for excimer ablation lithography

Beteiligte:

Suzuki, K. (Autor:in) / Matsuda, M. (Autor:in) / Hayashi, N. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 127-129 ; 905-910

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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