Oxidation of spatially controlled atomically flat Si(001) surface: Fid-Bau Portal

Oxidation of spatially controlled atomically flat Si(001) surface

Ando, A. / Sakamoto, K. / Miki, K. / Matsumoto, K. / Sakamoto, T.

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Titel:

Oxidation of spatially controlled atomically flat Si(001) surface

Beteiligte:

Ando, A. (Autor:in) / Sakamoto, K. (Autor:in) / Miki, K. (Autor:in) / Matsumoto, K. (Autor:in) / Sakamoto, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 130-132 ; 197-201

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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