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    Titel:

    Influence of Deposition Parameters on the Properties of Titanium Nitride Films Formed by Ion Beam Assisted Evaporation

    Beteiligte:

    Wolff, D. (Autor:in) / Oechsner, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 287/288 ; 499-502

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1998

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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