TOF study of pulsed-laser ablation of aluminum nitride for thin film growth: Fid-Bau Portal

TOF study of pulsed-laser ablation of aluminum nitride for thin film growth

Chu, C. / Ong, P. P. / Chen, H. F. / Teo, H. H.

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Titel:

TOF study of pulsed-laser ablation of aluminum nitride for thin film growth

Beteiligte:

Chu, C. (Autor:in) / Ong, P. P. (Autor:in) / Chen, H. F. (Autor:in) / Teo, H. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 137 ; 91-97

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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