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    Titel:

    Oxygen diffusion through RuO~2 bottom electrode of integrated ferroelectric capacitors

    Beteiligte:

    Ahn, J.-H. (Autor:in) / Lee, W.-J. (Autor:in) / Kim, H.-G. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 38 ; 250-253

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1105 / 530

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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