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    Titel:

    Photopolymerization by evanescent waves: characterization of photopolymerizable formulation for photolithography with nanometric resolution

    Beteiligte:

    Espanet, A. (Autor:in) / Dos Santos, G. (Autor:in) / Ecoffet, C. (Autor:in) / Lougnot, D. J. (Autor:in) / Boyd, I. W. / Perriere, J. / Stuke, M.

    Erschienen in:

    Proceedings of Symposium G on Surface Processing: Laser, Lamp, Plasma of the 1998 E-MRS Spring Conference - Strasbourg, France, June 16-1998 ; 87-92

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 138/139

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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