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    Titel:

    Colloid monolayer lithography-A flexible approach for nanostructuring of surfaces

    Beteiligte:

    Burmeister, F. (Autor:in) / Badowsky, W. (Autor:in) / Braun, T. (Autor:in) / Wieprich, S. (Autor:in) / Boneberg, J. (Autor:in) / Leiderer, P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 144 ; 461-466

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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