Multiply-charged ion beam induced dry etching of semiconductor materials: Fid-Bau Portal

Multiply-charged ion beam induced dry etching of semiconductor materials

Meguro, T. / Sakamoto, M. / Takai, H. / Aoyagi, Y.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Multiply-charged ion beam induced dry etching of semiconductor materials

Meguro, T. / Sakamoto, M. / Takai, H. / Aoyagi, Y.

Multiply-charged ion beam induced dry etching of semiconductor materials

Meguro, T. / Sakamoto, M. / Takai, H. / Aoyagi, Y.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Multiply-charged ion beam induced dry etching of semiconductor materials

Beteiligte:

Meguro, T. (Autor:in) / Sakamoto, M. (Autor:in) / Takai, H. (Autor:in) / Aoyagi, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 74 ; 40 - 44

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

P. D. DeGraff / D. C. Flanders | NTIS | 1979

Failure criteria for multiply flawed anisotropic materials

Wu, T.-L. / Huang, J. H. | British Library Online Contents | 1999

Modeling of a Multiply Jointed Voussoir Beam in the Centrifuge

Talesnick, M. L. / Bar Ya’acov, N. / Cruitoro, A. | British Library Online Contents | 2007

Mechanisms of synchrotron radiation-excited etching reactions of semiconductor materials

Ohashi, H. / Yoshida, A. / Tabayashi, K. et al. | British Library Online Contents | 1993

Modeling of a Multiply Jointed Voussoir Beam in the Centrifuge

Talesnick, M. L. / Bar Ya’acov, N. / Cruitoro, A. | Online Contents | 2006

Nach oben