ESR characterization of the top Si layer of ion implanted SIMOX: Fid-Bau Portal

ESR characterization of the top Si layer of ion implanted SIMOX

Chowdhury, E. A. / Seki, T. / Izumi, T. / Tanaka, H. / Hara, T.

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Titel:

ESR characterization of the top Si layer of ion implanted SIMOX

Beteiligte:

Chowdhury, E. A. (Autor:in) / Seki, T. (Autor:in) / Izumi, T. (Autor:in) / Tanaka, H. (Autor:in) / Hara, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 159-160 ; 231-236

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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